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半导体行业的高速压力调节阀采用 85 /86 系列压力传感器进行精确测量
专栏:技术支持
发布日期:2022-06-11
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在相同的气体流量应用工艺中,采用相同的气体质量流量控制器,使用了高速自动压力调节阀控制的次级压力非常稳定,并且气体质量流量控制器控制的气体输出也更稳定,基本消除了较大的流量控制偏差。
半导体行业MOCVD工艺或者LCD溅射CVD工艺中,精确的气体分配和气体质量流量控制都是十分关键的技术。 Key Physical Parameters in Semiconductor 分 配 气体质量流量控制 控制的关键点之一是控制分配阀前端管道的压力值保持稳定。 实际使用过程中,任一管道流量的突然变化都会对其他管道产生压力波动影响,从而影响流量控制结果。此情景类似于在用热水器洗澡的时候,旁边的水龙头被打开了,你第一时间就感受到了压力变化,甚至有些时候温度变化,你会记忆更深刻些。而在MOCVD工艺以及其他类似应用工艺中,这些气体质量流量变化必须控制一定的范围内,以免产生过大的废品率。 压 力 自动压力调节控制 压力自动调节阀 于是,采用一个响应快速,精确控制的自动压力调节阀就成了最佳选择。 上图中采用UR高速自动压力调节阀和传统的压力控制方式,可以很明显地看到压力控制区别以及后续气体质量流量控制效果。 黑色爬坡下坡实线为主管道初级压力波动曲线,浅蓝色实线为控制后的次级压力波动曲线,黑色波浪线为气体质量流量控制器输出的实际流量波动曲线。在相同的气体流量应用工艺中,采用相同的气体质量流量控制器,使用了高速自动压力调节阀控制的次级压力非常稳定,并且气体质量流量控制器控制的气体输出也更稳定,基本消除了较大的流量控制偏差。 压 力 测 量 高速压力调节阀采用 进行压力测量 采用模拟信号输出的紧凑型85/86系列压力晶圆 快速准确的压力测量为高速准确的压力自动调节提供稳定信号支持。
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